產(chǎn)品詳情
生產(chǎn)型TGV/TSV/TMV 高真空磁控濺射鍍膜機(jī)(Sputter-2000W系列)該設(shè)備用于玻璃基板和陶瓷基板的高密度通孔和盲孔的金屬種子層鍍膜,深徑比>10:1。例如:用于基板鍍膜工序Cu/Ti微結(jié)構(gòu),Au/TiW傳輸導(dǎo)線雙體系膜層淀積能力,為微系統(tǒng)集成密度提升提供支撐。

本設(shè)備優(yōu)點(diǎn):膜層均勻性及重復(fù)性高,膜層附著力強(qiáng),設(shè)備依據(jù)工藝配方進(jìn)行可編程自動(dòng)化控制。
設(shè)備結(jié)構(gòu)及性能參數(shù)
- 單鍍膜室、雙鍍膜室、多腔體鍍膜室
- 臥式結(jié)構(gòu)、立式結(jié)構(gòu)
- 樣品傳遞:直線式
- 磁控濺射靶數(shù)量及類型:多支矩形磁控靶
- 磁控濺射靶:直流、射頻、中頻、高能脈沖兼容
- 基片可加熱、可升降、可加偏壓
- 通入反應(yīng)氣體,可進(jìn)行反應(yīng)濺射鍍膜
- 操作方式:手動(dòng)、半自動(dòng)、全自動(dòng)
- 基片托架:根據(jù)基片尺寸配置
- 基片幅面:2、4、6、8、10英寸及客戶要求尺寸
- 進(jìn)/出樣室極限真空度:≤8X10^-5Pa
- 進(jìn)/出樣室工作背景真空度:≤2X10^-3Pa
- 鍍膜室的極限真空度:5X10^-5Pa
- 工作背景真空度:8X10^-4Pa
- 膜層均勻性:<5%(片內(nèi)),<5%(片間)
- 設(shè)備總體漏放率:關(guān)機(jī)12小時(shí)真空度≤10Pa
工作條件
| 類型 | 參數(shù) | 備注 |
| 供電 | ~380V | 三相五線制 |
| 功率 | 根據(jù)設(shè)備規(guī)模配置 | |
| 冷卻水循環(huán) | 根據(jù)設(shè)備規(guī)模配置 | |
| 水壓 | 1.0~1.5×105Pa | |
| 制冷量 | 根據(jù)散熱量配置 | |
| 水溫 | 18~25℃ | |
| 氣動(dòng)部件供氣壓力 | 0.5MPa~0.7MPa | |
| 質(zhì)量流量控制器供氣壓力 | 0.05MPa~0.2MPa | |
| 工作環(huán)境溫度 | 10℃~40℃ | |
| 工作環(huán)境濕度 | ≤50% |
關(guān)于我們
鵬城微納技術(shù)(沈陽(yáng))有限公司,由哈爾濱工業(yè)大學(xué)(深圳)與有多年實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的工程師團(tuán)隊(duì)共同發(fā)起創(chuàng)建。公司立足于技術(shù)前沿、市場(chǎng)前沿和產(chǎn)業(yè)前沿的交叉點(diǎn),尋求創(chuàng)新yin*ling與可持續(xù)發(fā)展,解決產(chǎn)業(yè)的痛點(diǎn)和國(guó)產(chǎn)化難題,爭(zhēng)取產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控。
鵬城微納技術(shù)(沈陽(yáng))有限公司是鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司全資子公司,是半導(dǎo)體和泛半導(dǎo)體工藝和裝備的設(shè)計(jì)中心和生產(chǎn)制造基地。
公司核心業(yè)務(wù)是微納技術(shù)與gao*duan精密制造,具體應(yīng)用領(lǐng)域包括半導(dǎo)體和泛半導(dǎo)體材料、工藝、裝備的研發(fā)設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造、工藝技術(shù)服務(wù)及裝備的升級(jí)改造,可為用戶提供工藝研發(fā)和打樣,可為生產(chǎn)企業(yè)提供生產(chǎn)型設(shè)備,可為科學(xué)研究提供科研設(shè)備。
公司人才團(tuán)隊(duì)知識(shí)結(jié)構(gòu)完整,有工程師哈工大教授和博士,為核心的高水平材料研究和工藝研究團(tuán)隊(duì),還有來(lái)自工業(yè)界的高級(jí)裝備設(shè)計(jì)師團(tuán)隊(duì),他們具有30多年的半導(dǎo)體材料研究、外延技術(shù)研究和半導(dǎo)體薄膜制備成套裝備設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造的經(jīng)驗(yàn)。
公司依托于哈爾濱工業(yè)大學(xué)(深圳),具備xian*jin的半導(dǎo)體研發(fā)設(shè)備平臺(tái)和檢測(cè)設(shè)備平臺(tái),可以在高起點(diǎn)開(kāi)展科研工作。公司總部位于深圳市,具備半導(dǎo)體和泛半導(dǎo)體裝備的研發(fā)、生產(chǎn)、調(diào)試以及器件的中試、生產(chǎn)、銷售的能力。
公司團(tuán)隊(duì)技術(shù)儲(chǔ)備及創(chuàng)新能力
1998~2002
-設(shè)計(jì)了中試型的全自動(dòng)化監(jiān)控的MOCVD,用于外延硅基GaN
-設(shè)計(jì)制造了聚氨酯薄膜的卷繞式鍍膜機(jī)
2005
-設(shè)計(jì)制造了中國(guó)di*yi臺(tái)wan*quan自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的MBE(分子束外延設(shè)備),用于外延光電半導(dǎo)體材料
2007
-設(shè)計(jì)超高溫CVD 和MBE,用于4H晶型SiC外延生長(zhǎng)
-設(shè)計(jì)制造了光學(xué)級(jí)金剛石生長(zhǎng)設(shè)備(采用熱激發(fā)技術(shù)和CVD技術(shù))
2015
-設(shè)計(jì)制造了金剛石涂層制備設(shè)備,制備了金剛石電極、微米晶和納米晶金剛石薄膜、導(dǎo)電金剛石薄膜
2017
-優(yōu)化Rheed設(shè)計(jì),開(kāi)始生產(chǎn)型MBE設(shè)計(jì)
-開(kāi)始研發(fā)PSD方法外延GaN的工藝和裝備
2019
-設(shè)計(jì)制造了大型熱絲CVD金剛石薄膜的生產(chǎn)設(shè)備
2021
-鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司成立
2022
-子公司鵬城微納成立;
-熱絲CVD設(shè)備、高真空磁控濺射儀、電子束蒸鍍機(jī)、分子束外延與磁控濺射聯(lián)用設(shè)備多套出貨
-獲得ISO9001質(zhì)量管理體系證書(shū)
2023
-PSD方法外延GaN裝備與工藝的技術(shù)攻關(guān);
-科技型中小企業(yè)-入庫(kù)編號(hào)202344030500018573;
-創(chuàng)新型中小企業(yè);
-獲50+項(xiàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)zhuan*li;
-企業(yè)信用評(píng)價(jià)3A*信用企業(yè);/ISO三體系認(rèn)證;
-子公司晶源半導(dǎo)體成立
2024~2026
-與jun*gong和和核工業(yè)客戶合作取得突破(核反應(yīng)堆材料的涂層工藝及裝備、X 光感受板及光電器件的薄膜生長(zhǎng))
-鵬城微納子公司擴(kuò)產(chǎn)
-TGV/TSV/TMV
-微光探測(cè)、醫(yī)療影像、復(fù)合硬質(zhì)涂層
-gao*xin*ji*shu企業(yè)
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