產(chǎn)品詳情
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)(PVD鍍膜設(shè)備)是在高真空條件下,采用電子束轟擊材料加熱蒸發(fā)的方法,在襯底上鍍制各種金屬、氧化物、導(dǎo)電薄膜、光學(xué)薄膜、半導(dǎo)體薄膜、鐵電薄膜、超硬膜等;可鍍制混合物單層膜、多層膜或摻雜膜;可鍍各種高熔點(diǎn)材料。

可用于生產(chǎn)、科學(xué)實(shí)驗(yàn)及教學(xué),可根據(jù)用戶要求專門訂制。
可根據(jù)用戶使用要求,選配石英晶體膜厚儀自動(dòng)控制及光學(xué)膜厚儀自動(dòng)控制兩種方式, 通過PLC 和工控機(jī)聯(lián)合實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)鍍膜過程的全程自動(dòng)控制, 包括真空系統(tǒng)、烘烤系統(tǒng)、蒸發(fā)過程和膜層厚度的監(jiān)控功能等,從而提高了工作效率和保證產(chǎn)品質(zhì)量的一致性和穩(wěn)定性。
設(shè)備特點(diǎn)
設(shè)備具有真空度高、抽速快、基片裝卸方便的特點(diǎn),配備 E 型電子束蒸發(fā)源和電阻蒸發(fā)源。PID自動(dòng)控溫,具有成膜均勻、放氣量小和溫度均勻的優(yōu)點(diǎn)。
可根據(jù)用戶使用要求,選配石英晶體膜厚自動(dòng)控制及光學(xué)膜厚自動(dòng)控制兩種方式,通過PLC和工控機(jī)聯(lián)合實(shí)現(xiàn)對(duì)整個(gè)鍍膜過程的全程自動(dòng)控制,包括真空系統(tǒng)、烘烤系統(tǒng)、蒸發(fā)過程和膜層厚度的監(jiān)控功能等,從而提高了工作效率和保證產(chǎn)品質(zhì)量的一致性和穩(wěn)定性。
真空性能
極限真空:7×10^-5Pa~7×10^-6Pa
設(shè)備總體漏放率:關(guān)機(jī)12小時(shí),≤10Pa
恢復(fù)工作真空時(shí)間短,大氣至7×10^-4Pa≤30分鐘;
高真空電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī)(電子束蒸發(fā)鍍膜機(jī))設(shè)備構(gòu)成
E 型電子束蒸發(fā)槍、電阻熱蒸發(fā)源組件(可選配)、樣品掩膜擋板系統(tǒng)、真空獲得系統(tǒng)及真空測(cè)量系統(tǒng)、分子泵真空機(jī)組或低溫泵真空機(jī)組、旋轉(zhuǎn)基片加熱臺(tái)、工作氣路、樣品傳遞機(jī)構(gòu),膜厚控制系統(tǒng)、電控系統(tǒng)、恒溫冷卻水系統(tǒng)等組成。
可選件:膜厚監(jiān)控儀,恒溫制冷水箱。
可選:鍍膜機(jī)+手套箱
熱蒸發(fā)源種類及配置
|
項(xiàng)目 |
參數(shù) |
備注 |
| E 型電子束蒸發(fā)系統(tǒng) | 1套 | |
| 功率 | 6kW~10kW | 其它功率(可根據(jù)用戶要求選配) |
| 坩堝 | 1~8只 | 可根據(jù)用戶要求選配 |
| 電阻熱蒸發(fā)源組件 | 1~4套 | (可根據(jù)用戶要求配裝) |
電阻熱蒸發(fā)源種類
- 鉭(鎢或鉬)金屬舟熱蒸發(fā)源組件
- 石英舟熱蒸發(fā)源組件
- 鎢極或鎢藍(lán)熱蒸發(fā)源組件
- 鉭爐熱蒸發(fā)源組件(配氮化硼坩堝或陶瓷坩堝)
- 束源爐熱蒸發(fā)組件(配石英坩堝或氮化硼坩堝)
操作方式
手動(dòng)、半自動(dòng)

關(guān)于我們
鵬城微納技術(shù)(沈陽(yáng))有限公司,由哈爾濱工業(yè)大學(xué)(深圳)與有多年實(shí)踐經(jīng)驗(yàn)的工程師團(tuán)隊(duì)共同發(fā)起創(chuàng)建。公司立足于技術(shù)前沿、市場(chǎng)前沿和產(chǎn)業(yè)前沿的交叉點(diǎn),尋求創(chuàng)新yin*ling與可持續(xù)發(fā)展,解決產(chǎn)業(yè)的痛點(diǎn)和國(guó)產(chǎn)化難題,爭(zhēng)取產(chǎn)業(yè)鏈的自主可控。
鵬城微納技術(shù)(沈陽(yáng))有限公司是鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司全資子公司,是半導(dǎo)體和泛半導(dǎo)體工藝和裝備的設(shè)計(jì)中心和生產(chǎn)制造基地。
公司核心業(yè)務(wù)是微納技術(shù)與gao*duan精密制造,具體應(yīng)用領(lǐng)域包括半導(dǎo)體和泛半導(dǎo)體材料、工藝、裝備的研發(fā)設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造、工藝技術(shù)服務(wù)及裝備的升級(jí)改造,可為用戶提供工藝研發(fā)和打樣,可為生產(chǎn)企業(yè)提供生產(chǎn)型設(shè)備,可為科學(xué)研究提供科研設(shè)備。
公司人才團(tuán)隊(duì)知識(shí)結(jié)構(gòu)完整,有工程師哈工大教授和博士,為核心的高水平材料研究和工藝研究團(tuán)隊(duì),還有來(lái)自工業(yè)界的高級(jí)裝備設(shè)計(jì)師團(tuán)隊(duì),他們具有30多年的半導(dǎo)體材料研究、外延技術(shù)研究和半導(dǎo)體薄膜制備成套裝備設(shè)計(jì)、生產(chǎn)制造的經(jīng)驗(yàn)。
公司依托于哈爾濱工業(yè)大學(xué)(深圳),具備xian*jin的半導(dǎo)體研發(fā)設(shè)備平臺(tái)和檢測(cè)設(shè)備平臺(tái),可以在高起點(diǎn)開展科研工作。公司總部位于深圳市,具備半導(dǎo)體和泛半導(dǎo)體裝備的研發(fā)、生產(chǎn)、調(diào)試以及器件的中試、生產(chǎn)、銷售的能力。
公司團(tuán)隊(duì)技術(shù)儲(chǔ)備及創(chuàng)新能力
1998~2002
-設(shè)計(jì)了中試型的全自動(dòng)化監(jiān)控的MOCVD,用于外延硅基GaN
-設(shè)計(jì)制造了聚氨酯薄膜的卷繞式鍍膜機(jī)
2005
-設(shè)計(jì)制造了中國(guó)di*yi臺(tái)wan*quan自主知識(shí)產(chǎn)權(quán)的MBE(分子束外延設(shè)備),用于外延光電半導(dǎo)體材料
2007
-設(shè)計(jì)超高溫CVD 和MBE,用于4H晶型SiC外延生長(zhǎng)
-設(shè)計(jì)制造了光學(xué)級(jí)金剛石生長(zhǎng)設(shè)備(采用熱激發(fā)技術(shù)和CVD技術(shù))
2015
-設(shè)計(jì)制造了金剛石涂層制備設(shè)備,制備了金剛石電極、微米晶和納米晶金剛石薄膜、導(dǎo)電金剛石薄膜
2017
-優(yōu)化Rheed設(shè)計(jì),開始生產(chǎn)型MBE設(shè)計(jì)
-開始研發(fā)PSD方法外延GaN的工藝和裝備
2019
-設(shè)計(jì)制造了大型熱絲CVD金剛石薄膜的生產(chǎn)設(shè)備
2021
-鵬城半導(dǎo)體技術(shù)(深圳)有限公司成立
2022
-子公司鵬城微納成立;
-熱絲CVD設(shè)備、高真空磁控濺射儀、電子束蒸鍍機(jī)、分子束外延與磁控濺射聯(lián)用設(shè)備多套出貨
-獲得ISO9001質(zhì)量管理體系證書
2023
-PSD方法外延GaN裝備與工藝的技術(shù)攻關(guān);
-科技型中小企業(yè)-入庫(kù)編號(hào)202344030500018573;
-創(chuàng)新型中小企業(yè);
-獲50+項(xiàng)知識(shí)產(chǎn)權(quán)zhuan*li;
-企業(yè)信用評(píng)價(jià)3A*信用企業(yè);/ISO三體系認(rèn)證;
-子公司晶源半導(dǎo)體成立
2024~2026
-與jun*gong和和核工業(yè)客戶合作取得突破(核反應(yīng)堆材料的涂層工藝及裝備、X 光感受板及光電器件的薄膜生長(zhǎng))
-鵬城微納子公司擴(kuò)產(chǎn)
-TGV/TSV/TMV
-微光探測(cè)、醫(yī)療影像、復(fù)合硬質(zhì)涂層
-gao*xin*ji*shu企業(yè)
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